反渗透设备在超纯水制取领域中的应用

时间:2013-09-22 作者:admin 点击:514次

 超纯水*初是美国科技界为了研制超纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水,如今超纯水已在生物、医药、汽车等领域广泛应用。这种水中除了水分子(H20)外,几乎没有什么杂质,更没有细菌、病毒、含氯二恶英等有机物,当然也没有人体所需的矿物质微量元素。超纯水,是一般工艺很难达到的程度,如水的电阻率大于18MΩ*cm,接近于18.3MΩ*cm则称为超纯水。目前,制备超纯水的方法通常采用反渗透,去离子或电去离子(EDI)等工艺。

 
化工行业高纯水设备,采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理等方法,将水中的导电介质几乎完全去除,又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水处理设备。
化工行业高纯水设备主要应用于电池行溶剂用水、化学分析、化工材料、产品清洗、物质的分离、浓缩、提纯,废物回收等场合,对于水质要求相对来说不是太高,纯水电导率从0.1uS/cm-20uS/cm就基本上能满足要求。化学化工高纯水设备采用反渗透,离子交换,EDI等超纯水生产工艺的不同组合,生产出即经济实用,又能满足客户要求的超纯水处理设备。
化工行业高纯水设备主要应用领域:纺织印染造纸用水;化学试剂生产用水;精细化学药剂生产用水;日用化妆品生产用水;化工材料的生产和加工过程所用的溶剂及清洗过程;超纯材料和超纯化学试剂;
    电子行业超纯水设备主要应用于:半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路成品、半成品用超纯水;多硅晶超纯水、太阳能行业超纯水设备、电镀工业超纯水;多晶硅超纯水、单晶硅超纯水、太阳能超纯水;光电超纯水;LCD液晶显示器用超纯水。
 
电子行业超纯水、化工超纯水常规制备工艺:
1)采用离子交换方式,其流程如下:
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器(阻垢剂)→精密过滤器→阳树脂过滤床→阴树脂过滤床→阴阳树脂混床→纯水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点
2)采用反渗透加离子交换方式,其流程如下:
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器(阻垢剂)→精密过滤器→反渗透机→阴阳树脂混床→纯水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点
3)采用反渗透加EDI方式,其流程如下:
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器(阻垢剂)→精密过滤器→反渗透机→EDI系统→抛光混床→纯水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点
 
 
电子行业超纯水、化工超纯水相关水质标准
 
电子超纯水国家规格GB/T1146.1-1997
级别 EW-Ⅰ EW-Ⅱ EW-Ⅲ EW-Ⅳ
电阻率
MΩ·cm(25℃) 18
(95%时间)
不低于17 15
(95%时间)
不低于13 12.0 0.5
全硅 *大值ug/L 2 10 50 1000
>1um微粒数,*大值 个/ml 0.1 5 10 500
细菌数,*大值,个/mL 0.01 0.1 10 100
铜,*大值 ug/L 0.2 1 2 500
锌,*大值 ug/L 0.2 1 2 500
镍,*大值 ug/L 0.1 1 2 500
钠,*大值 ug/L 0.5 2 5 1000
钾,*大值 ug/L 0.5 2 5 500
氯,*大值 ug/L 1 1 10 1000
硝酸根,*大值 ug/L 1 1 10 500
磷酸根,*大值 ug/L 1 1 10 500
硫酸根,*大值 ug/L 1 1 10 500
总有机碳,*大值 ug/L 20 100 200 1000
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