电渗析设备的稳定运行与药剂的添加

时间:2020-02-24 作者:admin 点击:506次

一种电渗析设备,其中包括具有注入水的电解槽和用于电解设在电解槽内的电极,在电解槽内注入水后向电极通电进行电解将水进行消毒的电解消毒机构和与贮存水的池连接,将池内的水注入到电解槽中,且将电解槽内的水返回到池中的水处理通路和测定水的残留氯浓度的残留氯传感器及根据残留氯传感器的测定值控制向电极通电量的控制机构,设定水的残留氯浓度的设定机构,控制机构是控制向电极的通电量,以便将残留氯传感器的测定值达到与设定机构设定的残留氯浓度一致,迄今为止,用于水处理剂的分析通常采用传统(湿化学的)技术,有时结合水流量计和/或电导率读数,从系统中取出水样并进行湿化学测试,常规的湿化学测试包括对水样进行滴定或者人工加入试剂,它们能与所关心的物质反应,形成可用分光光度计测量的混浊的或有颜色的溶液,浊度或颜色的深度与所关心的物质的浓度成正比,即使能够精确地读出加入系统的水处理剂的质量或体积以及获得水处理剂的剩余浓度,但如果剩余浓度的测定是基于定时或间歇的取样,则任何据此推断出的水处理剂的系统需要和/或系统消耗数值都是基于零散的数据和过时的信息,系统消耗的变化,可能直至它对处理剂的消耗和系统性能已经产生重大的影响才能被检测出来,这种电渗析设备,其中具有注入了电解消毒机构制造的消毒液的消毒槽、将消毒液从电解槽供给消毒液槽的*供给通路和将消毒液从消毒液槽供给水处理通路的第二供给通路,控制机构是在电解消毒机构不对水消毒的时间带内,将电解消毒机构制造的消毒液通过*供给通路注入到消毒液槽中,在电解消毒机构对水消毒的时间带内,将贮存在消毒槽的消毒液,通过第二供给通路,随时供给水处理通路,在一个工业的水系统工厂,使用任何估算的、可变化的、间歇的、零碎的或过时的数据,会严重地削弱水处理剂系统内浓度任何要求的响应调节的灵敏度和/或削弱随着处理剂系统需要或系统消耗的变化而适当补偿系统内水处理剂浓度的可能性,水处理剂系统内浓度的响应调节不可避免地要延迟并且系统效能可能受到损害,当系统内浓度的响应调节延迟时,在水处理剂的系统消耗改变的时刻与水处理剂系统内浓度得到调节和/或系统操作参数(例如,碱性)得到调整的时刻之间,将产生一定程度的例行的供料不足或供料过多,因此药剂的添加,对电渗析设备的稳定运行非常重要。

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