电渗析设备可用于中和如半导体工业中的酸性和碱性流出废物流，可以在处理废物流的同时通过将化学能转化成电能来发电，在各种工业中使用大量酸性和碱性材料，例如，晶片清洗是集成电路制造中*频繁重复的步骤并且是半导体设备业务中*重要的部门之一，随着器件尺寸缩小和使用新材料，该方法变得更复杂，这样的清洗法中常用的一些代表性的酸和碱包括盐酸、硫酸、氢氟酸和氢氧化铵，代表性的半导体加工厂可能每月消耗或至少购买大约70至80吨50%氢氧化钠溶液来中和酸性废物，电渗析组件内的单元室可以改变形式和大小，例如开始在该室的端部为阳极，*种形式的单元室包括一阳离子膜，一稀的或供料隔室，一阴离子膜和一浓缩的或产品隔室，这些隔室形成单元用于盐水溶液的脱盐和盐的回收和生产，这些单元称为”标准电渗析浓缩或淡化室“，在化学蚀刻中，使用酸或碱溶解不想要的材料，如金属、半导体材料或玻璃，用作蚀刻剂的常见的酸和碱包括盐酸、硝酸、氢氟酸、氢氧化钠和氢氧化钾，反向电渗析设备包含:阳极；阴极；与所述阳极和所述阴极电连通的荷载；位于所述阳极和所述阴极之间、由*离子交换膜和双极膜限定的*室，所述*室与酸性废弃排出物流流体连通；和位于所述阳极和所述阴极之间、由所述双极膜和第二离子交换膜限定的第二室，所述第二室与碱性废弃排出物流流体连通，该系统可进一步包含构造成使酸性废弃排出物流再循环至*室的再循环系统，该再循环系统可进一步构造成使碱性废弃排出物流再循环至第二室，该系统可构造和布置成中和酸性和碱性废污水流，同时将它们的化学能转化成电能，该系统可构造和布置成将*室出口的酸性废弃排出物流与第二室出口的碱性废弃排出物流混合以形成盐溶液源，在一些实施方案中，该系统可进一步包含与盐溶液源流体连通的第三室，该酸性废弃排出物在一些实施方案中可包含盐酸，盐度不同的溶液之间的化学势差可在各膜上生成电压，该系统的总电势通常是所有膜上的电势差的总和，这种电渗析设备的中间隔室几乎不泄漏，在可比较的压力降下提供较高的液流速度，在少量沉淀物质存在下具有改进性能的较高的转化率和产品回收率。