采用双高纯水设备(EDI-BP)处理低浓度模拟含镍废水，研究了Ni(OH)2沉淀产生的原因及消除措施。结果表明：高纯水设备沿膜器高度的电流密度分布不均匀；浓水室靠近产水出水端阴膜面产生的Ni(OH)2 沉淀由于局部Ni2+、OH?离子浓度过高造成。*脱盐室进水端阳膜面产生的Ni(OH)2沉淀由水解离造成。采用降低原水pH、浓水pH等措施能够有效地避免沉淀的产生；在原水Ni2+浓度30 mg/L、流速0.317 cm/s、pH值2.77，浓水pH 1.18和电流密度9.5 mA/cm2的条件下进行浓缩试验，高纯水设备试验稳定运行285 h，得到的产水电导率约为1.5μS/cm，产水中未检测出Ni2+离子，浓水中Ni2+浓度可达2.7 g/L，浓缩倍数达90倍。