进行了高纯水设备去除铜离子的研究,着重考察了膜堆电压对去除性能的影响。试验采用一级两段的混床EDI膜堆的高纯水设备,以含铜约50mg/L的CuSO4溶液为原水。研究表明,随着膜堆电压增大,电流增加,铜离子的去除率增大,EDI过程的操作逐渐由"增强传质"模式过渡为"电再生"模式,并且膜堆电压越高,发生电再生的树脂层高度越大,EDI产水中铜离子浓度用火焰原子吸收分光光度法无法检出,电导率则可达到1μS/cm以下。对于一定的分离目标,存在一个适宜的操作电压范围,能够既满足分离要求又避免过高的能耗。实验表明工作电压的调节对高纯水设备的工作有很重要的影响。