高纯水设备在亚微米研究中的应用

时间:2014-08-16 作者:admin 点击:304次

 多年来VLSI 设计中的“十进规则”一直支配着允许的*大颗粒尺寸,例如对1.5μm 的设计,要求其颗粒不得大于0.15μm.Dr.Lou Sarto 说“为了消除致命的缺陷,随着半导体器件线宽的缩小更有必要检测愈来愈小的粒子沾污”.但是,当高纯水设备的出水中允许的粒子尺寸和其总数急剧下降时,粒子数的计数和对超纯水质的评价也日益困难.颗粒的来源众所周知,超纯水中所含的杂质有细菌、无机离子、总有机碳、SiO_2和微粒等.

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