许多工业,尤其是制药业和电子工业,消耗的高纯水量与日剧增。虽然在这些工业中使用高纯水设备的原因不尽相同,但对高纯水质量标准的要求却大抵相同。当低功率 MOS 集成电路开始大量投产时,人们就认识到:通过对作功的晶体表面强去污便可改善这类 MOS 电路(例如手表电路)的工作可靠性和长期稳定性。这种想法就是*大限度地清除离子,特别是碱金属和重金属离子,化学家证实了高纯水是一种*有效的去污剂。高纯水设备可认为是制取一种纯度达99.99999~+纯水的设备。